SJ MOSFET的技術主要有兩種,其一為由英飛凌(Infineon)開發的多磊晶技術,藉由摻雜(doping)磊晶在磊晶層上形成島狀的摻雜區域,使該區域擴散形成一個氮摻雜(N-doped)平面。另一種技術則采用深反應離子蝕刻挖出溝槽狀結構,再將氮摻雜材料填補于溝槽,制造出超接面的結構,開發此科技的業者主要為東芝(Toshiba),快捷半導體(Fairchild Semiconductor) 及艾斯摩斯科技(IceMOS Technology)。
Avron指出,科技的進展使得多磊晶與深蝕刻技術發展越發競爭,東芝剛推出第4代DTMOS,是一種具備較小間距(pitch)的深溝槽結構MOSFET,可采用更小的晶粒且改善導通電阻(RdsON),雖然制造成本仍高于英飛凌的CoolMOS,但將會越來越具競爭力。
化合物半導體(compound semiconductor)是SJ MOSFET的強勁競爭對手,如碳化硅(SiC)因為能承受較高的電壓,有潛力應用于高階解決方案,預計到2015年前硅都還會是主流,另外IGBT兼具價格與轉換效率兩者優勢,美商國際整流器(International Rectifier)正在研發足以與SJ MOSFET相抗衡的高速IGBTs,到頭來SJ MOSFET可能定位于這兩者中間,并視電壓、應用及轉頻的需求,而與碳化硅、高速IGBT、IGBT或氮化鎵相互競爭。 1、Coolmos的選型 一般我們選擇一顆MOS 大致看以下幾個參數 BV Id Rds Vth Qg Pd等。但是這幾個參數,只有Qg和Id是交流參數,其他都是靜態參數。而半導體這東西就是隨溫升變壞的。那動態參數,其實是變壞的。25度的電流是100A,也許125度的時候,電流只有50A,所以選型的時候要以高溫下(老化房)的數據為準。那選好了電壓、電流,剩下就是看Coolmos的損耗了。Coolmos露在表面的是Rdson 較低,只有平面管的1/3或者1/4,那MOS的導通損耗必然較之平面管要低不少。MOS的另外一個損耗,開關損耗其實往往更加占主導。開關損耗在MOS里最直接體現的數值是Trr。這也是Coolmos最核心的參數。從coolmos的發展來看 C3 C6 CP CFD CFD2 都是在Trr上下功夫(C6除外,他是C3的Cost down)。你是電源設計者,Trr的合理使用,你比我清楚。Coolmos在實際應用中,MOS前段的Rg驅動,一般對電阻要求會低很多。這也能降低損耗。舉個例子,20N60C3 MOS前段的驅動電阻一般可做到15mohm以下,但是也不是越低越好,開關越高,EMI的問題就出來了。所以驅動電阻的選擇要綜合考慮,在EMI允許的情況下,盡量降低驅動電阻。
2.Coolmos是否需要采用散熱措施。我只能說要看功率,舉個例子,150W的LED電源上,你覺得可以不加散熱嘛?15W的LED電源上,加散熱裝置,那有地方么?Coolmos,在應用端,解決了有的電源方案需要電子器件更小的體積,甚至是去掉散熱片(如Iphone的充電器),而大功率上看重Coolmos的還是他能降低損耗,所以散熱片是一定要加的。
3.Coolmos目前在國內應用還是非常片面的,任重而道遠。舉個例子,在一個70W的筆記本適配器上,很多還是用的20A的平面管(或者是16A),但是我們知道實際電路里的有效電流其實很小,用20A只是看重他的低內阻,降低損耗,降低溫升。那現在很多工程師來Rreview這個方案的時候,腦子還是轉不過彎來。如果使用Coolmos,他認為還需要16A的,那同等電流,價格肯定不可比的。其實呢,Coolmos 10A足夠去替代了。開關損耗,Coolmos要較平面管低很多,內阻的話Coolmos的10A較之16A的平面也不會高多少,在高溫下,基本內阻
是一致的。(有機會發個實驗數據,16A的平面管和10A的Coolmos在100度下,內阻是相差不多的---前提,帶負載,體現開關損耗低的特點),所以工程師要多了解Coolmos。
在中壓MOS(100-150V),英飛凌、ST、AO、FC均有超低導通電阻、超低損耗的MOS出現,如Opti3MOS(艾默生、華為都有大量使用,是未來的主導)、SDMOS等。
總之一句話:MOS在發展,損耗會越來越低。電源方案只會像更高效率和更小體積發展。目前COOLMOS類產品主要以Infineon一家獨大,占據市場比例比較多。當然,除了Infineon以外,Toshiba、ST、NCE等廠家也都有COOLMOS產品在推廣應用,但市場份額相對占的比較小
無錫新潔能股份有限公司(NCE Power)是中國現代大功率半導體器件的領航設計與銷售企業,專業從事各種大功率半導體器件與功率集成器件設計、生產和銷售。 公司是中國第一家研發成功并上量銷售大功率-超結-MOSFET(SJ-MOSFET)的設計公司,是江蘇省重點支持的半導體大功率器件設計高新技術企業。公司緊密結合自身器件與工藝設計技術領先的優勢,與國際一流的芯片代工廠、封裝、測試代工廠保持密切配合與合作,嚴謹產品質量控制,保證產品的持續優質和穩定供貨。
NCE的和Infineon的C3是基本同一個平臺但有工藝改進而來的,那驅動Qg和結電容導致炸機的風險Toshiba和ST之類的風險要高于NCE,但個人目前覺得NCE做的東西還是有一定技術含量的,這與他們的老板原來是從Infineon出來的負責coolmos研發和制造的工作經歷有關系.
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