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mosfet是雙向的么

如圖所示 用的是IR公司的IRF630所搭的電路,

因?yàn)樽罱P(guān)于mosfet的工作原理很是糾結(jié),想驗(yàn)證一下mosfet能不能雙向?qū)ǎ鶕?jù)電流波形圖 

似乎能得到電流可以雙向?qū)ǖ倪@個(gè)結(jié)論。

請(qǐng)高手指點(diǎn)迷津,關(guān)于mosfet網(wǎng)上有人說(shuō)可以雙向也有人說(shuō)只能單向,困惑呀 。

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pltczw
LV.1
2
2013-02-18 17:19

源、漏間有反向保護(hù)二極管

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nod32-a
LV.3
3
2013-03-02 19:15
拋開漏源之間的方向二極管不說(shuō),單從原理上來(lái)說(shuō)是可以的,柵源電壓大于開啟電壓,導(dǎo)電溝道便形成,也沒(méi)有規(guī)定漏極電壓一定要高羽柵極電壓,所以應(yīng)該是可以正反導(dǎo)通的,但是我想正反導(dǎo)通電流的能力應(yīng)該是有區(qū)別的。
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roc918
LV.1
4
2013-03-02 20:39
@nod32-a
拋開漏源之間的方向二極管不說(shuō),單從原理上來(lái)說(shuō)是可以的,柵源電壓大于開啟電壓,導(dǎo)電溝道便形成,也沒(méi)有規(guī)定漏極電壓一定要高羽柵極電壓,所以應(yīng)該是可以正反導(dǎo)通的,但是我想正反導(dǎo)通電流的能力應(yīng)該是有區(qū)別的。

MOSFET VDS接負(fù)電壓使用

 

1.      N-Channel MOSFET的制造工藝

N-Channel MOSFET是以一塊雜質(zhì)濃度較高的P型硅片作襯底,擴(kuò)散/外延2個(gè)N+區(qū)作電極,分別為D/S.D/S間的絕緣層上再制造一層G.
 

當(dāng)G/S間加正電壓時(shí),由于絕緣層的存在,沒(méi)有電流流過(guò),但是柵極被充電而聚集正電荷,P型襯底中的多子空穴被正電荷排斥而在表面留下帶負(fù)電的耗盡層.

當(dāng)Vgs增加時(shí),耗盡層加寬.繼續(xù)加大超過(guò)Vgs(th)時(shí),襯底中的電子被正電荷吸引至表面,在耗盡層和絕緣層間行成反型層.這個(gè)反型層就是導(dǎo)電的溝道.
 

 

2. N-Channel MOSFET 電流的形成

N-Channel MOSFET的制造工藝可以看到,導(dǎo)電溝道的形成是靠Vgs,只要在gs之間增加高過(guò)門檻的電壓,就會(huì)在D,S之間形成導(dǎo)電溝道。此時(shí),只要在D,S間加電壓就有電流流過(guò)。電流的方向由D,S間電壓電位差決定:在D,S之間增加正電壓,電流由D流向S;在D,S之間增加負(fù)電壓,電流由S流向D

 

3.      寄生二極體從何而來(lái)?

一般MOSFET出廠時(shí),通常會(huì)將源極S和襯底短路以降低導(dǎo)電溝道形成的門檻電壓,這樣在源極就通過(guò)襯底同D極之間形成PN結(jié),即我們常說(shuō)的寄生二極體

 

4.      VDS)為負(fù)時(shí),電流是否從寄生二極體流過(guò)?

D,S之間增加負(fù)電壓時(shí),由I*Rds(on)可知,反響導(dǎo)通時(shí),導(dǎo)電溝道的壓降小于二極體的導(dǎo)通壓降(0.7V~1.2V,寄生二極體被短路。

 

5.       為何一般規(guī)格書中都沒(méi)有反向?qū)ǖ囊?guī)格

我們所看的一般文檔都是著重闡明如何去控制MOSFET的開通和關(guān)斷,而規(guī)格書中一般給出的是D電壓高于S,而不是S高于D,因?yàn)楹笳呦喈?dāng)于MOSFET處于失控狀態(tài).

 

6.      結(jié)論:

由以上闡述可知:MOSFET的電流是可以雙向流動(dòng)的且正向?qū)ê头聪驅(qū)ň哂邢嗤奶匦浴?/span>

 


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nod32-a
LV.3
5
2013-03-03 10:42
@roc918
MOSFETVDS接負(fù)電壓使用 1.      N-ChannelMOSFET的制造工藝N-ChannelMOSFET是以一塊雜質(zhì)濃度較高的P型硅片作襯底,擴(kuò)散/外延2個(gè)N+區(qū)作電極,分別為D/S.在D/S間的絕緣層上再制造一層G. 當(dāng)G/S間加正電壓時(shí),由于絕緣層的存在,沒(méi)有電流流過(guò),但是柵極被充電而聚集正電荷,P型襯底中的多子空穴被正電荷排斥而在表面留下帶負(fù)電的耗盡層.當(dāng)Vgs增加時(shí),耗盡層加寬.繼續(xù)加大超過(guò)Vgs(th)時(shí),襯底中的電子被正電荷吸引至表面,在耗盡層和絕緣層間行成反型層.這個(gè)反型層就是導(dǎo)電的溝道.  2.N-ChannelMOSFET 電流的形成由N-ChannelMOSFET的制造工藝可以看到,導(dǎo)電溝道的形成是靠Vgs,只要在gs之間增加高過(guò)門檻的電壓,就會(huì)在D,S之間形成導(dǎo)電溝道。此時(shí),只要在D,S間加電壓就有電流流過(guò)。電流的方向由D,S間電壓電位差決定:在D,S之間增加正電壓,電流由D流向S;在D,S之間增加負(fù)電壓,電流由S流向D; 3.      寄生二極體從何而來(lái)?一般MOSFET出廠時(shí),通常會(huì)將源極S和襯底短路以降低導(dǎo)電溝道形成的門檻電壓,這樣在源極就通過(guò)襯底同D極之間形成PN結(jié),即我們常說(shuō)的寄生二極體 4.      V(DS)為負(fù)時(shí),電流是否從寄生二極體流過(guò)?在D,S之間增加負(fù)電壓時(shí),由I*Rds(on)

雖然我說(shuō)不出原因,但是我感覺(jué)正方向?qū)娏鞯哪芰κ遣煌模?/p>

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